高级光学系统分析软件ASAP
ASAP（Advanced Systems Analysis Program）软件是美国Breault Research Organization(BRO)公司研发的一款在3D空间通过非序列光线追迹来模拟光学系统表现度的软件。多年以来，广泛应用在照明设计，杂散光分析，背光板设计，偏振光分析等领域。其中尤以出众精准的照明和杂散光分析能力而闻名，这是LED照明设计和高精度系统中必不可少的功能。
BRO 公司位于美国亚利桑那州图森市（Tuscon），在1979 年由Dr. Robert P. Breault 创建。BRO 公司有三大业务：ASAP 软件销售和技术支持、ASAP 教育培训和承接工程项目。ASAP 软件以其强大的功能，为美国政府和全球光学行业做出了巨大的服务。BRO 公司承接众多美国军方对战机、军舰、战车的LED 照明设计和改造项目。ASAP功能之强，可见一斑。
ASAP光学软件主要特点
1、功能强大、运算速度快
2、严谨精确的灯源库、可靠精准的模拟结果
ASAP 的灯源模型在几何形状和发光度上非常精准，并包括了完整的光谱数据，同时包含了从灯源所得的实际光学和机械的几何模型。光可被灯源几何模型反射、拆射或是散射。ASAP 的灯源模型充分地考虑了这些光学的交互作用，而这些光学交互作用在光学系统上可能造成不要的杂散光。严谨精确的灯源模型是获得可靠精准的模拟结果的保证！
红外镜头设计软件SYNOPSYS
SYNOPSYS镜头设计软件是目前世界上功能强大的镜头设计软件之一。37年的发展更新和Windows界面使得新手很容易上手使用；能轻松面对更高的专业需求。开发商OSD公司几乎在所有类型的光学系统设计方面有着丰富的经验，包括测试仪器、天文、照明、微光夜视、红外系统、目镜等方面。可以快速有效地解决用户的设计需求；概念发展或方案开发；详细的镜头设计；公差分析；技术性能分析（包括衍射效应，通过MonteCarlo分析公差预算影响）；建立的透镜系统会自动匹配首选供应商的光学样本列表，从而降低加工成本和加快设计加工进程。
- 强大的优化功能：
SYNOPSYS拥有最强大的优化功能，可以快速准确地优化光学系统。
- 广泛的应用性：
SYNOPSYS可以分析优化各种各样的复杂光学系统。支持多种特殊光学面如衍射光学元件、复杂非球面、自由曲面设计；各种变焦镜头，扫描系统。很容易实现元件的偏心和倾斜；从1976年以来，全球的用户已成功地利用SYNOPSYS设计研制了大量镜头，受到广大客户的肯定和好评。
- 镜头搜索功能：
输入所要设计的系统的使用波长、相对孔径、视场等参数，软件即可从自带的镜头库中找出对应的结构以供选择。
- 鬼像和冷反射分析：
光学系统中的鬼像是高端光学设计中不可忽视的问题，而冷反射则是带有低温接收元件的红外扫描成像系统所特有的一种现象。SYNOPSYS提供了四种分析计算方法，用户可快速地找出造成较严重鬼像或冷反射的问题面，并可在优化过程中自动减小或消除其影响。
- 变焦系统设计优化：
可以对以下参数的优化，透镜间隔，透镜的半径、材料，波长，光瞳大小，视场范围等；可以直接输出凸轮曲线。
- 强大透镜边缘处理：
- 强大的公差分配功能：
拥有最先进、最完整的公差分析程序，可以对衍射传函、均方根波像差或用户定义的评价指标进行公差分配。具有自动对样板、国际标准加工图纸绘制、成本估算等功能。
半导体模拟-激光设计分析软件
SimuLase™是第一款半导体模拟软件，用户通过它可以充分利用最新的半导体模型。通过软件的全微观多体模型，可用来精确验证/预测某些结构参数的关键光电特性，如增益/吸收，折射率，自发辐射（光致发光）或由辐射和俄歇损耗造成的载流子损耗等，从而节省时间和昂贵的实验研究成本。
用于微观特性计算的工具也可以计算V(E)CSEL结构的一些宏观特性，例如横模和纵模模式，反射和透射光谱，考虑空腔效应的表面PL光谱，阈值电流或工作特性等。通过Simulase模拟可以将实验结果与理论值进行对比。利用微观多体模型开展的创新研究已在很多论文中得到证明。SimuLase也提供了有关设计、分析和优化案例。
SimuLase™提供：
- 软件给出了对任一可信器件建模时的准确初始基本输入。该数据也可导入到其他商业软件工具中，作进一步研究；
- 软件给出了易操作的GUI界面，可以确定很多结构的基本特性，而不需要任何实验反馈；
- 软件给出了很多经过实验验证的模型，在过去的二十年间，已经有五十多篇发表的论文对这些模型进行了研究。而且，即使您不是微观多体物理学方面的专家，也可以充分利用本软件。SimuLase可以利用微观多体模型的参数匹配，自动的进行结构设计和预设置所有参数。同时为了快速浏览或找出研究兴趣点，软件也允许更改计算参数或使用简化模型。
本软件所采用的GUI界面方式，可以：
- 用于设计异质结构，只需简单的添加/删除/改变每层的宽度和组分；
- 即时显示异质结结构的能带、势能、子带和波函数；计算和显示背景折射率剖面、横模和纵模以及光学约束因子；
- 计算和显示结构的反射和透射谱；
- 计算施压掺杂层的电场分布；
- 计算由于自由载流子导致的本地电荷不均匀而产生的势能变化；
Gain Databases增益数据库:
- 该数据库给出了标准III-V 和II-VI族元素系统的数据；
- 数据库中材料特性可用于实现对激光芯片的完整闭环设计，从一般的结构设计入手（如层宽、构成和掺杂组成），然后在实验误差范围内对激射波长到输入输出特性等进行预测。软件提供的定量计算可对大部分光电器件如半导体激光器、光放大器或调制器等主要的材料特性进行预估。相对材料和结构设计，这些分析结果是普适的，几乎没有什么限制。采用微观多体计算过程可以算出：
- 增益、吸收及折射谱；自发辐射（光致发光）谱；
- 自发辐射的电流损耗；俄歇过程的电流损耗；带内（自由载流子）吸收；同时也可得到相关的一些参数，如微分增益和线宽加强因子。
- 采用的算法包括移相乘法和线型函数，避免了复杂算法。
光通信系统和放大器设计软件OptiSystem
OptiSystem 广受好评，在成本效益和生产效率至关重要的领域，它可以最大程度地降低时间要求，并且降低光学系统、链路和元件的设计相关成本。OptiSystem是一款创新的、发展迅速的强大软件设计工具，用户可使用该工具对从LAN、SAN、MAN 到超长距离等众多光网络的广谱物理层中的几乎所有光学链路进行规划、测试和仿真。它可以提供从元件到系统级别的传输层光通信系统设计和规划，并且能够直观地呈现分析和方案。OptiSystem 可与其他Optiwave产品以及业内先进电子设计自动化软件的设计工具集成，能够加快产品投入市场的速度并缩短投资回收期。
具体优点
- 可提供对系统性能的全方位洞察可评估参数灵敏度，以协助容差规格设计
- 可为潜在客户直观呈现设计选项和方案
- 可实现对广泛系统特性数据集的直接访问
- 提供自动参数扫描和优化
- 可与Optiwave系列产品集成
应用
OptiSystem 专门为解决科学家、光通信工程师、系统集成人员、学者以及其他众多用户的需要而开发，作为一款功能强大且易于使用的光学系统设计工具，它可满足不断发展的光子产业市场的要求。
