TYG-2000系列投影光刻機

主要產品技術特徵及指標:

1. 操作十分方便

• 除上下基片以外，其餘操作均可在計算機上操作，自動完成。
• 軟件界面友好易用，可對當前曝光區域、待曝光區域、曝光參數等信息進行實時的圖形化顯示。
• 提供工藝文件管理軟件，方便存儲和修改工藝條件，並提供工作日誌記錄功能。
• 高精度對準系統可適應不同大小的曝光基片、甚至碎片，對準過程均在對準程序的輔助下完成。選配的背面對準系統，還可將該機型升級為具有雙面對準曝光的步進投影光刻機。
• 自動焦面檢測系統主動反饋當前焦面位置並於工件台實現閉環控製，隻需設置好焦面位置，在曝光過程中設備會自動完成焦面調整。

2. 性能優越

• 采用專利技術 – 積木錯位蠅眼透鏡進行勻光，照明不均勻性優於2%；
• 基於中國科學院光電技術研究所二十多年來在光刻物鏡的設計、加工、製造和檢測中的技術沉澱， 標準物鏡可以互換，另外還可根據客戶需要另配其他參數物鏡：

TYG-2000/A （0.8um-1um、曝光視場15mmX15mm）、

TYG-2000/T1（1微米、5倍縮小、曝光視場10mmX10mm）、

TYG-2000/T2（2微米、2.5倍縮小、曝光視場20mmX20mm）、

TYG-2000/T3（5微米、1倍、曝光視場50mmX50mm）、

• 光源質量好—保證曝光圖形方、陡、直。通過***光學設計、光學鍍膜，曝光成分為純淨的365nm，紅外和可見成分被徹底過濾，保證曝光面為冷光（在環境溫度為22度，曝光面溫度不超過30度），肉眼觀察為暗藍紫光，紫外探測能量很高；
• 對準精度±0.5μm ，能實現正面和背面圖形的套刻，優異的數字圖像處理算法以及對準算法使其實現套刻曝光精度優於±0.5μm；通過選配背面對準模塊，還可以實現雙面對準曝光；
• 照明均勻性: 2%
• 曝光面積: 3mm x 3mm – 50mm x 50mm
• 調焦台運動靈敏度: 1um
• 調焦台運動行程: 5mm
• 掩模尺寸: 3″/4″/5″
• 光刻分辨率: 0.3um – 5um
• 檢焦:CCD檢測，檢測精度0.5um
• 光源 : 采用的是高性能歐司朗350W高壓球形汞燈、且電源性能好所以點燈容易；因為采用積木錯位蠅眼透鏡，均勻性和消衍射效果不受燈位置限製；汞燈觸發容易，更換方便。
• 自行研製的開發的自動焦面檢測與閉環控製系統可以使得焦面調節精度優於1μm；
• 汞燈功率: 1000W (直流，采用進口德國歐斯朗直流汞燈);
• 關鍵器件均采用了***的進口器件，如氣動元件主要采用日本SMC，汞燈采用德國歐斯朗，導軌、絲杆采用日本THK，電機及驅動器采用日本三洋，光柵尺采用美國Micro E，***限度的提高了設備的穩定性和可靠性。

3. 應用領域

• 醫療衛生，環保，電子。