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LPCVD，PECVD，氧化爐/擴散爐

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適於 4 英寸到 8 英寸襯底工藝的水平爐，易於翻新和升級
適用於多種大型工藝
4 管可獨立控製
基於 Window NT 的用戶界面
數據采集和圖形分析
實時維護模式
高度的安全性與氣體監控


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