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LPCVD，PECVD，氧化炉/扩散炉

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适于 4 英寸到 8 英寸衬底工艺的水平炉，易于翻新和升级
适用于多种大型工艺
4 管可独立控制
基于 Window NT 的用户界面
数据采集和图形分析
实时维护模式
高度的安全性与气体监控


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LPCVD，PECVD，氧化炉/扩散炉
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