TYG-2000系列投影光刻機

主要產品技術特徵及指標:

1. 操作十分方便

• 除上下基片以外，其余操作均可在计算机上操作，自动完成。
• 软件界面友好易用，可对当前曝光区域、待曝光区域、曝光参数等信息进行实时的图形化显示。
• 提供工艺文件管理软件，方便存储和修改工艺条件，并提供工作日志记录功能。
• 高精度对准系统可适应不同大小的曝光基片、甚至碎片，对准过程均在对准程序的辅助下完成。选配的背面对准系统，还可将该机型升级为具有双面对准曝光的步进投影光刻机。
• 自动焦面检测系统主动反馈当前焦面位置并于工件台实现闭环控制，只需设置好焦面位置，在曝光过程中设备会自动完成焦面调整。

2. 性能优越

• 采用专利技术 – 积木错位蝇眼透镜进行匀光，照明不均匀性优于2%；
• 基于中国科学院光电技术研究所二十多年来在光刻物镜的设计、加工、制造和检测中的技术沉淀， 标准物镜可以互换，另外还可根据客户需要另配其他参数物镜：

TYG-2000/A （0.8um-1um、曝光视场15mmX15mm）、

TYG-2000/T1（1微米、5倍缩小、曝光视场10mmX10mm）、

TYG-2000/T2（2微米、2.5倍缩小、曝光视场20mmX20mm）、

TYG-2000/T3（5微米、1倍、曝光视场50mmX50mm）、

• 光源质量好—保证曝光图形方、陡、直。通过最佳光学设计、光学镀膜，曝光成分为纯净的365nm，红外和可见成分被彻底过滤，保证曝光面为冷光（在环境温度为22度，曝光面温度不超过30度），肉眼观察为暗蓝紫光，紫外探测能量很高；
• 對準精度±0.5μm ，能实现正面和背面图形的套刻，优异的数字图像处理算法以及对准算法使其实现套刻曝光精度优于±0.5μm；通过选配背面对准模块，还可以实现双面对准曝光；
• 照明均勻性: 2%
• 曝光面積: 3mm x 3mm – 50mm x 50mm
• 調焦台運動靈敏度: 1um
• 調焦台運動行程: 5mm
• 掩模尺寸: 3″/4″/5″
• 光刻分辨率: 0.3um – 5um
• 檢焦:CCD檢測，檢測精度0.5um
• 光源 : 采用的是高性能欧司朗350W高压球形汞灯、且电源性能好所以点灯容易；因为采用积木错位蝇眼透镜，均匀性和消衍射效果不受灯位置限制；汞灯触发容易，更换方便。
• 自行研制的开发的自动焦面检测与闭环控制系统可以使得焦面调节精度优于1μm；
• 汞燈功率: 1000W (直流，采用進口德国欧斯朗直流汞燈);
• 关键器件均采用了最好的进口器件，如气动元件主要采用日本SMC，汞灯采用德国欧斯朗，导轨、丝杆采用日本THK，电机及驱动器采用日本三洋，光栅尺采用美国Micro E，最大限度的提高了设备的稳定性和可靠性。

3. 應用領域

• 医疗卫生，环保，电子。